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陶瓷颜料的漫反射与烧成条件对照｜日立 UH4150 / UH4150AD+
将粉体和烧成片分开建组；记录表面粗糙度、底材及烧成制度。粉体光谱不直接预测釉面颜色；需要对应工艺样片和一致测量几何。
本次样品与测量目标
将粉体和烧成片分开建组，记录表面粗糙度、底材及烧成制度。
参考：L1 · 高测具体产品资料：UH4150 / UH4150AD+；P1 · Hitachi UH4150 原厂产品资料
把任务落实到核对清单
将样品、配置、参考及判读条件随原始记录保存，便于比较。
| 核对环节 | 需要明确的内容 |
|---|---|
| 任务重点 | 将粉体和烧成片分开建组 |
| 测量条件 | 记录表面粗糙度、底材及烧成制度 |
| 解释范围 | 粉体光谱不直接预测釉面颜色；需要对应工艺样片和一致测量几何 |
反射几何会改变被收集的光
镜面反射和散射反射来自不同方向。附件若没有收集同一类光，样品相同也可能得到不同结果。先固定是否计入镜面分量、参考白板与装样方式，再比较批次；必要时通过两种几何的对照判断差异来自表面还是材料。
配置与结果的解释范围
粉体光谱不直接预测釉面颜色；需要对应工艺样片和一致测量几何。
产品资料与本次检测任务的边界
日本日立 Hitachi UH4150 / UH4150AD+型号资料与配置核对 ↗：日立 UH4150 紫外可见近红外分光光度计。本篇主产品资料入口；用于核对本文讨论任务所需的附件、配置与方法条件，不把型号名称视为应用效果证明。
方法与厂商参考资料
参数及应用条件可通过以下原厂与方法资料核对。